中圖儀器NS系列探針式臺階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測試是一種接觸式表面形貌測量儀器,，可以對微米和納米結(jié)構(gòu)進(jìn)行膜厚和薄膜高度,、表面形貌、表面波紋和表面粗糙度等的測量,。廣泛應(yīng)用于：大學(xué),、研究實驗室和研究所、半導(dǎo)體和化合物半導(dǎo)體,、高亮度LED,、太陽能、MEMS微機電,、觸摸屏,、汽車,、醫(yī)療設(shè)備等行業(yè)領(lǐng)域。

NS系列探針式臺階儀/輪廓/形貌/粗糙度/表面2D測試對測量工件的表面反光特性,、材料種類,、材料硬度都沒有特別要求，樣品適應(yīng)面廣,，數(shù)據(jù)復(fù)現(xiàn)性高,、測量穩(wěn)定、便捷,、高效,，是微觀表面測量中使用非常廣泛的微納樣品測量手段。

產(chǎn)品功能

1.參數(shù)測量功能

1）臺階高度：能夠測量納米到330μm甚至1000μm的臺階高度,，可以準(zhǔn)確測量蝕刻,、濺射、SIMS,、沉積,、旋涂、CMP等工藝期間沉積或去除的材料,；

2）粗糙度與波紋度：能夠測量樣品的粗糙度和波紋度,，分析軟件通過計算掃描出的微觀輪廓曲線，可獲取粗糙度與波紋度相關(guān)的Ra,、RMS,、Rv、Rp,、Rz等20余項參數(shù),；

3）翹曲與形狀：能夠測量樣品表面的2D形狀或翹曲，如在半導(dǎo)體晶圓制造過程中,，因多層沉積層結(jié)構(gòu)中層間不匹配所產(chǎn)生的翹曲或形狀變化,，或者類似透鏡在內(nèi)的結(jié)構(gòu)高度和曲率半徑。

2.數(shù)采與分析系統(tǒng)

1）自定義測量模式：支持用戶以自定義輸入坐標(biāo)位置或相對位移量的方式來設(shè)定掃描路徑的測量模式,；

2）導(dǎo)航圖智能測量模式：支持用戶結(jié)合導(dǎo)航圖,、標(biāo)定數(shù)據(jù)、即時圖像以智能化生成移動命令方式來實現(xiàn)掃描的測量模式,。

3）SPC統(tǒng)計分析：支持對不同種類被測件進(jìn)行多種指標(biāo)參數(shù)的分析,，針對批量樣品的測量數(shù)據(jù)提供SPC圖表以統(tǒng)計數(shù)據(jù)的變化趨勢。

3.光學(xué)導(dǎo)航功能

配備了500W像素的彩色相機,，可實時將探針掃描軌跡的形貌圖像傳輸?shù)杰浖酗@示,，進(jìn)行即時的高精度定位測量。

4.樣品空間姿態(tài)調(diào)節(jié)功能

配備了精密XY位移臺、360°電動旋轉(zhuǎn)平臺和電動升降Z軸,，可對樣品的XYZ,、角度等空間姿態(tài)進(jìn)行調(diào)節(jié)，提高測量精度及效率,。

性能特點

1.亞埃級位移傳感器

具有亞埃級分辨率,，結(jié)合單拱龍門式設(shè)計降低環(huán)境噪聲干擾，確保儀器具有良好的測量精度及重復(fù)性,；

2.超微力恒力傳感器

1-50mg可調(diào),，以適應(yīng)硬質(zhì)或軟質(zhì)樣品表面，采用超低慣量設(shè)計和微小電磁力控制,，實現(xiàn)無接觸損傷的接觸式測量,；

3.超平掃描平臺

系統(tǒng)配有超高直線度導(dǎo)軌，杜絕運動中的細(xì)微抖動,，真實地還原掃描軌跡的輪廓起伏和樣件微觀形貌,。

典型應(yīng)用

1、半導(dǎo)體應(yīng)用

(1)沉積薄膜的臺階高度

(2)抗蝕劑（軟膜材料）的臺階高度

(3)蝕刻速率測定

(4)化學(xué)機械拋光（腐蝕,、凹陷,、彎曲)

2、大型基板應(yīng)用

(1)印刷電路板（突起,、臺階高度）

(2)窗口涂層

(3)晶片掩模

(4)晶片卡盤涂料

(5)拋光板

3,、玻璃基板及顯示器應(yīng)用

(1)AMOLED

(2)液晶屏研發(fā)的臺階步級高度測量

(3)觸控面板薄膜厚度測量

(4)太陽能涂層薄膜測量

4、柔性電子器件薄膜應(yīng)用

(1)有機光電探測器

(2)印于薄膜和玻璃上的有機薄膜

(3)觸摸屏銅跡線

部分技術(shù)參數(shù)

使用環(huán)境

相對濕度：濕度 （無凝結(jié)）30-40% RH

溫度：16-25℃ (每小時溫度變化小于2℃)

地面振動：6.35μm/s（1-100Hz）

音頻噪音：≤80dB

空氣層流：≤0.508 m/s（向下流動）